国際出願番号

PCT/JP2007/057489

国際公開番号

WO2007/116889

出願人

有限会社情報科学研究所

発明の名称

フリーラジカル消去性水素溶液製造装置

国際出願日

2007年4月3日

国際公開日

2007年10月18日

発明者

上 村 親 士 外4名

要約

原料の液体材料からpHを変化させずに、フリーラジカル消去性と還元性を有し、飲料、食品、医薬、化粧品等に使用可能な液体材料を製造する。(1)ポンプ装置1と水素供給装置2と連通し、水素飽和溶液との気泡との懸濁液を生成する渦流エジェクター装置3と、気泡を破砕して水素溶液を生成する気泡微細化装置4と、から構成される水素溶液製造装置102と、(2)0.01〜10テスラの磁石が1000〜3500rpmの回転数で回転して形成する回転磁場で、水素溶液を磁気処理するフリーラジカル消去性付与装置5と、制御装置6と、フリーラジカル消去性安定化装置7と、貯留タンク8と、を含むことを特徴とするフリーラジカル消去性水素溶液の製造装置と、その製造方法と、その製造装置を用いたフリーラジカル消去性水素溶液と、を提供する。

©有限会社情報科学研究所